PECVD氣相沉積系統
  • 等離子增強化學(xué)氣相沉積... 化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強型化學(xué)氣相沉積技術(shù),基本溫度低,沉積速率快,在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉...
  • 等離子體增強型化學(xué)氣相... 化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強型化學(xué)氣相沉積技術(shù),能夠利用高能量等離子體促進(jìn)反應過(guò)程,有效提升反應速度,降低反應溫度。適用...
  • CVD化學(xué)氣相沉積系統 CVD氣相沉積系統廣泛應用于材料科學(xué)和工程領(lǐng)域,用于制備各種功能性薄膜,如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。...
  • PECVD氣相沉積 PECVD氣相沉積在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領(lǐng)域具有廣泛的應用
  • 雙溫區CVD化學(xué)氣相沉... CVD(化學(xué)氣相沉積)氣相沉積系統是一種常用的薄膜制備技術(shù),通過(guò)在高溫下將氣體反應物質(zhì)與基底表面反應,形成薄膜
  • 三溫區PECVD石墨烯... 三溫區PECVD廣泛用于石墨烯制備,顆粒包覆等科學(xué)實(shí)驗上
  • 熱陰極直流等離子體化學(xué)... 熱陰極直流等離子體化學(xué)氣相沉積設備(DCCVD)是在常規冷陰極輝光放電基礎上發(fā)展起來(lái)的,主要用于金剛石單晶或多晶膜的沉積...
  • 卷對卷PECVD石墨烯... 卷對卷PECVD石墨烯制備設備主要應用于計算機和智能手機屏幕,超輕、柔性的太陽(yáng)能電池,以及新型的發(fā)光設備和其他薄膜電子產(chǎn)...
  • PECVD-R?旋轉等... 本產(chǎn)品為PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備。PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備十分適合在氣氛保護的環(huán)境下連續...
  • PE-HPCVD等離子... PE-HPCVD等離子增強物理化學(xué)氣相沉積由一臺雙溫區管式爐,一套鎢絲蒸發(fā)源,一套等離子發(fā)生裝置以及一套質(zhì)量流量計組成。...
  • PECVD鍍膜儀 CY-PECVD-450化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強型化學(xué)氣相沉積技術(shù),能夠利用高能量等離子體促進(jìn)反應過(guò)程,有效提升反應...
  • 單溫區旋轉PECVD石... 單溫區旋轉PECVD,安裝有真空自動(dòng)投料器,爐管尾部預留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進(jìn)料,可以以額定的速率...
  • 卷對卷式PECVD 卷對卷式PECVD是等離子增強型化學(xué)氣相沉積設備(PECVD),并加裝了收放卷裝置。本設備可用于線(xiàn)材的連續化熱處理工藝中...
  • 等離子增強CVD系統 等離子增強CVD系統由等離子發(fā)生器,三溫區管式爐、單溫區管式爐、射頻電源、真空系統組成。等離子增強CVD系統為了使化學(xué)反...
  • 等離子增強型CVD系統 CY-PECVD50R-1200-Q是一款等離子增強型CVD系統。此系統由150W射頻電源、單溫區管式爐、3通道質(zhì)子流量...

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