磁控濺射鍍膜儀
  • 桌面型單靶直流磁控濺射... 單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用,也可實(shí)驗室SEM樣品制備
  • 桌面型雙靶磁控濺射鍍膜... 本設備為雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用,也可實(shí)驗室SEM樣品制備...
  • 高真空4英寸三靶磁控濺... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等
  • 下置四靶磁控濺射鍍膜儀 四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜
  • 臥式高真空三靶磁控濺射... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等
  • 小型臺式單靶磁控濺射鍍... 桌面型石英腔體單靶磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用,也可實(shí)驗室SE...
  • 桌面型不銹鋼腔體單靶磁... 單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用,也可實(shí)驗室SEM樣品制備
  • 粉體磁控濺射包覆機 粉體磁控濺射包覆機是通過(guò)粉未在濺射腔室內的旋轉,以達到粉未表面均勻包覆的效果。腔室可旋轉、傾斜,能快速出料。
  • 真空腔體 該真空腔體非常適合物理沉積 (PVD)、化學(xué)沉積 (CVD)、等離子體化學(xué)沉積 (PECVD)、熱噴涂、電子束濺射等多種...
  • 三靶磁控濺射鍍膜儀   三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物...
  • 單靶直流磁控濺射鍍膜儀 該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、...
  • 三靶直流磁控濺射鍍膜儀 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜...
  • 帶過(guò)渡艙三靶磁控濺射鍍... 本設備為三靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用,也可實(shí)驗室SEM樣品制備
  • 光纖繞絲單靶磁控濺射鍍... 單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質(zhì)的膜層
  • 三靶向上磁控濺射鍍膜儀 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學(xué)薄膜、氧化膜、硬...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設備相比,其不僅應用廣泛...
  • 單靶磁控光纖繞絲濺射鍍... 單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀,專(zhuān)用于光纖制備薄膜,采用不銹鋼高真空腔體,配有帶擋板的觀(guān)察窗,可以觀(guān)察鍍膜過(guò)程,擋板則能有效...
  • 臺式緊湊型三靶磁控濺射... CY-VTC-3DC是專(zhuān)為非金屬薄膜鍍膜設計的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統,主要用于多層氧化物薄膜,是新一代氧化物薄膜...
  • 雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設備相比,其不僅應用...
  • 單靶直流磁控濺射鍍膜儀 單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設備相比,其不僅應用廣泛,...
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