產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱(chēng):三靶磁控濺射鍍膜儀雙電源

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSH325-III-DCDCRF-SS
  • 產(chǎn)品廠(chǎng)商:成越科儀
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簡(jiǎn)單介紹:
三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶(hù)可以根據所鍍基板的大小自主選購;所配電源為500W直流電源和500W射頻電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,射頻電源可用于非金屬膜的制備,三個(gè)靶可以滿(mǎn)足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶(hù)有其他鍍膜需要,可以定制其他射頻電源和脈沖電源,各型電源均有300W到1000W多種規格可選。
詳情介紹:

該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗室制備材料薄膜的理想設備。


鍍膜儀配有兩路高精度質(zhì)量流量計,客戶(hù)若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路,以滿(mǎn)足復雜的氣體環(huán)境構建需求;儀器標配先進(jìn)的渦輪分子泵組,極限真空可達1.0E-5Pa,同時(shí)另有其他類(lèi)型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個(gè)電磁閥控制,可以實(shí)現在不關(guān)泵的情況下打開(kāi)腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統進(jìn)行控制,在電腦程序上可以實(shí)現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能,可以進(jìn)一步提高您的實(shí)驗效率。

三靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數:

三靶磁控濺射鍍膜儀(直流電源+射頻電源)

產(chǎn)品型號

CY-MSH325-III-DCDCRF-SS

樣品臺

 

尺寸

φ140mm

控溫精度

±1

加熱溫度

*500

轉速

1-20rpm可調

磁控濺射頭

 

數量

2 x3 1,2”可選)

水冷機規格

10L/min流速的循環(huán)水冷機

冷卻方式

水冷

真空腔體

 

腔體尺寸

Dia.300mm×300mm

觀(guān)察窗口

φ100mm

開(kāi)啟方式

上頂開(kāi)式

腔體材料

不銹鋼

質(zhì)量流量計

2路;量程100sccm;100sccm(可根據客戶(hù)需要定制多路氣路)

真空系統

 

 

 

 

產(chǎn)品型號

CY-GZK103-A

抽氣接口

CF160

分子泵

CY-600

排氣接口

KF40

前極泵

旋片泵

真空測量

復合真空計

極限真空

1.0E-5Pa

供電電源

AC;220V 50/60Hz

抽氣速率

分子泵:600L/S  旋片泵:1.1L/S  綜合抽氣性能:20分鐘真空度可達: 1.0E-3Pa

電源配置

數量

直流電源x2  射頻電源 x1

*大輸出功率

直流電源500W 射頻電源500W

 

其他

 

 

供電電壓

AC220V,50Hz

整機尺寸

600mm X 650mm X 1280mm

整機重量

300kg

整機功率

4KW

極限真空度

1.0E-5Pa




豫公網(wǎng)安備 41019702002438號