產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱(chēng):三靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSH500X-III-DCDCRF-SS
  • 產(chǎn)品廠(chǎng)商:成越科儀
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簡(jiǎn)單介紹:
  三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗室制備材料薄膜的理想設備
詳情介紹:
磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶(hù)可以根據所鍍基板的大小自主選購;所配電源為500W直流電源和500W射頻電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,射頻電源可用于非金屬膜的制備,三個(gè)靶可以滿(mǎn)足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶(hù)有其他鍍膜需要,可以定制其他射頻電源和脈沖電源,各型電源均有300W到1000W多種規格可選。
鍍膜儀配有兩路高精度質(zhì)量流量計,客戶(hù)若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路,以滿(mǎn)足復雜的氣體環(huán)境構建需求;儀器標配先進(jìn)的渦輪分子泵組,極限真空可達1.0E-5Pa,同時(shí)另有其他類(lèi)型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個(gè)電磁閥控制,可以實(shí)現在不關(guān)泵的情況下打開(kāi)腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統進(jìn)行控制,在電腦程序上可以實(shí)現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能,可以進(jìn)一步提高您的實(shí)驗效率。
靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗室制備材料薄膜的理想設備

 技術(shù)參數:

項目

明細

產(chǎn)品型號

CY-MSH500X-III-DCDCRF-SS

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

4KW

系統真空

5×10-4Pa

樣品臺

外形尺寸

φ150mm

加熱溫度

600℃

控溫精度

±1

可調轉速

20rpm

磁控靶槍

靶材尺寸

直徑Φ50.8mm,厚度3mm

冷卻模式

循環(huán)水冷

水流大小

不小于10L/Min

真空腔體

腔體尺寸

直徑φ500mm,高度420mm

腔體材質(zhì)

SUU304不銹鋼

觀(guān)察窗口

直徑φ100mm

開(kāi)啟方式

前開(kāi)式

氣體控制

1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量

真空系統

配分子泵系統1套,氣體抽速600L/S

膜厚測量

可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

濺射電源

直流電源功率500W*2 射頻電源功率500W

控制系統

CYKY自研專(zhuān)業(yè)級控制系統

設備尺寸

600mm×650mm×1280mm

設備重量

350kg


豫公網(wǎng)安備 41019702002438號