產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱(chēng):下置四靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSH500X-Ⅳ-DCDCRFRF-SS
  • 產(chǎn)品廠(chǎng)商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
你添加了1件商品 查看購物車(chē)
簡(jiǎn)單介紹:
四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜
詳情介紹:

四靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的實(shí)驗室專(zhuān)用鍍膜儀,設備配有兩臺直流電源,兩臺射頻電源,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。

磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn),鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶面聚集,使磁控鍍膜能長(cháng)時(shí)間穩定工作。

本型號采用靶下置布局,樣品臺在上方,與靶面高度可通過(guò)程序**可調,并且可旋轉加熱,性能優(yōu)異。


四靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數:

產(chǎn)品名稱(chēng)

下置四靶磁控磁控濺射鍍膜儀

產(chǎn)品型號

CY-MSH500X--DCDCRFRF-SS

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

6KW

極限真空度

5x10-4Pa

樣品臺

尺寸

150mm

高度

上下70mm**可調

加熱溫度

850

轉速

1-20rpm

磁控濺射頭參數

數量

4個(gè)2”磁控濺射頭

冷卻方式

水冷,所需流速10L/min

水冷機規格

10L/min流速的循環(huán)水冷機

真空腔體

腔體尺寸

φ500mm X550mm H

腔體材料

不銹鋼

觀(guān)察窗口

φ100mm

開(kāi)啟方式

前開(kāi)門(mén)式

氣體流量控制器

1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM  Ar;

真空泵

配有一套分子泵系統,抽速1200L/S

膜厚儀

石英振動(dòng)薄膜測厚儀一臺,分辨率0.10 ?

濺射電源

直流電源2臺,500W,適用于制備金屬膜

射頻電源2臺,500W,適用于非金屬鍍膜

操作方式

CYKY自研專(zhuān)業(yè)級控制系統

整機尺寸

1250mm X 1000mm X2000mm

整機重量

500kg


豫公網(wǎng)安備 41019702002438號