產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱(chēng):桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSZ254-II-DC-SS
  • 產(chǎn)品廠(chǎng)商:成越科儀
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簡(jiǎn)單介紹:
本設備為雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用,也可實(shí)驗室SEM樣品制備。 本套配置采用高真空不銹鋼腔體,腔體設置帶擋板的石英觀(guān)察窗,便于實(shí)驗的觀(guān)察記錄;腔體設計真空性能優(yōu)良,造型小巧,十分適合實(shí)驗室使用。同時(shí)設備配有旋轉加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機采用模塊化設計,操作邏輯簡(jiǎn)單,操作界面直觀(guān),利于上手
詳情介紹:

本設備為雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用,也可實(shí)驗室SEM樣品制備。

本套配置采用高真空不銹鋼腔體,腔體設置帶擋板的石英觀(guān)察窗,便于實(shí)驗的觀(guān)察記錄;腔體設計真空性能優(yōu)良,造型小巧,十分適合實(shí)驗室使用。同時(shí)設備配有旋轉加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機采用模塊化設計,操作邏輯簡(jiǎn)單,操作界面直觀(guān),利于上手。

技術(shù)參數:

產(chǎn)品名稱(chēng)

桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控濺射鍍膜儀

產(chǎn)品型號

CY-MSZ254-II-DC-SS

樣品臺

外形尺寸

φ100mm

可調轉速

≦20rpm

磁控靶槍

配兩支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm

真空腔體

腔體尺寸

φ254mm X 300mm

觀(guān)察窗口

前置式

腔體材料

304不銹鋼

開(kāi)啟方式

上蓋開(kāi)啟及前開(kāi)門(mén)

真空系統

前級泵

低噪音雙極旋片泵

分子泵

低噪音大抽速渦輪分子泵(選配)

真空測量

復合真空計,量程:10-5~105Pa

抽氣接口

KF16

排氣接口

KF16

系統真空

1.0×10-4Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

前級泵抽速1.1L/s 

電源配置

電源數量

直流電源一套

輸出功率

直流電源500W

其他參數

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

2kW

整機尺寸

550mm X 350mm X450mm

豫公網(wǎng)安備 41019702002438號