產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱(chēng):三靶向上磁控濺射鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSH325X-DCDCRF-SS
  • 產(chǎn)品廠(chǎng)商:成越科儀
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簡(jiǎn)單介紹:
三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學(xué)薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
詳情介紹:

三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的高性?xún)r(jià)比磁控濺鍍設備,具有標準化、模塊化、定制化的特點(diǎn)。該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學(xué)薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等,三種靶材可以滿(mǎn)足多層或多層涂層的需要。與同類(lèi)設備相比,三靶磁控濺射鍍膜儀不僅應用廣泛,而且具有體積小、操作方便等優(yōu)點(diǎn)。它是實(shí)驗室制備材料薄膜的理想設備。

三靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數:

項目

明細

產(chǎn)品型號

CY-MSH325X-DCDCRF-SS

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

6KW

系統真空

5×10-4Pa

樣品臺

外形尺寸

φ150mm

加熱溫度

750℃

控溫精度

±1

可調轉速

20rpm

磁控靶槍

靶材尺寸

直徑Φ50.8mm,厚度3mm

冷卻模式

循環(huán)水冷

水流大小

不小于10L/Min

靶槍數量

3

真空腔體

腔體尺寸

直徑φ325mm,高度600mm

腔體材質(zhì)

SUU304不銹鋼

觀(guān)察窗口

直徑φ100mm

開(kāi)啟方式

前面開(kāi)啟

氣體控制

1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

真空系統

配分子泵系統1套,氣體抽速600L/S

膜厚測量

可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

濺射電源

直流電源功率500W*2,射頻電源功率300

控制系統

CYKY自研專(zhuān)業(yè)級控制系統

真空計

電阻規真空計

設備尺寸

1090mm×900mm×1250mm

設備重量

350kg



豫公網(wǎng)安備 41019702002438號